Производство полупроводников

0
Станки б/у для использования в производстве полупроводников
Ваши настройки фильтра не дали никаких результатов. Ваши настройки фильтра не дали никаких результатов. Измените или удалите фильтры, чтобы увидеть больше результатов.

Рекомендации для Вас

Станки и оборудование после банкротства, закрытия или реструктуризации предприятий.

Вытяжная система (деревообработка) SCHUKO VALIDUS A-160-2330/30/249/BD
shape
Система лазерной резки ACCTEK AKJ1530FR
shape
Горизонтальный обрабатывающий центр MAZAK HCN 6000 / HCN 6000 II / PMC CONTROLLER
shape
Вертикальный обрабатывающий центр DMG DMC 835V
shape
Вертикальный обрабатывающий центр DMG MORI DMU 70 EVOLUTION
shape
Токарный станок с ЧПУ LEADWELL LTC 35 BLM
shape
HAAS VF 9 CNC Vertical Machining Center
shape
Нидерланды, 4761 RM Moerdijk
HAAS VF 9 CNC Vertical Machining Center
Другой пресс CHUN-ZU ZU CBF-83S
shape
Чехия, 511 01 Turnov - Daliměřice
Другой пресс CHUN-ZU ZU CBF-83S
Вертикальный обрабатывающий центр MAZAK NEXUS 510 C II
shape
Многооперационный станок с ЧПУ (деревообработка) HOMAG BAZ 211
shape
Вертикальный обрабатывающий центр DOOSAN DNM400
shape
Подъемное устройство MERLO ROTO 50.16
shape
Технология полупроводникового производства базируется в настоящее время на таких сложных прецизионных процессах обработки, как фото- и электронолитография, оксидирование, ионноплазменное распыление, ионная имплантация, диффузия, термокомпрессия и др. К материалам, используемым в производстве приборов и микросхем, предъявляют высокие требования по чистоте и совершенству структуры. Полупроводниковая промышленность характеризуется постоянным уменьшением размера структур и повышением плотности интеграции элементов.
  • послойное удаление материала и обработка
  • обработка свободным абразивом
  • плотность интеграции элементов
 Качество   Большой выбор   Инд. подход Инструмент для обработки полупроводниковых материалов и диэлектриков должен соответствовать этой тенденции развития. Для осуществления большинства технологических операций используют уникальное по характеристикам оборудование: оптико-механическое; термическое; ионно-лучевое. Процессы осуществляются в специальных обеспыленных, помещениях с заданными влажностью и температурой.

Полупроводниковые приборы эксплуатируются и при низких температурах. Поэтому энергия ионизации легирующих примесей полупроводникового материала должна быть значительной при температурах до —60°С. Для изготовления магнитоэлектрических приборов применяют арсенид индия и теллурид ртути. Для изготовления термоэлектрических приборов требуются полупроводниковые материалы, обеспечивающие максимальный коэффициент эффективности, т. е. обладающие высокой электропроводностью и низкой теплопроводностью. Такие свойства имеют антимонид цинка, теллурид и селенид висмута и их твердые растворы. При выборе материалов для изготовления фотоприборов руководствуются в первую очередь спектральной чувствительностью полупроводникового материала и особенно значением края поглощения. Полупроводниковые материалы, применяемые для производства лазеров, должны быть чистыми и обладать совершенной структурой. Посторонние примеси и дефекты приводят к появлению внутри запрещенной зоны промежуточных энергетических уровней. Материал для полупроводниковых лазеров должен иметь высокое значение подвижности при данной концентрации носителей заряда. Для механической обработки полупроводниковых материалов не могут быть использованы обычные токарные, фрезерные, строгальные и сверлильные станки, которые широко применяются для обработки различных материалов. Это связано с высокой хрупкостью полупроводниковых материалов. Поэтому основным способом их механической обработки является обработка с использованием абразивов как в связанном состоянии (алмазные диски и шлифовальники), так и в свободном (абразивные суспензии и алмазные пасты). Физическая сущность механизма разрушения хрупкого полупроводникового материала при обработке свободным абразивом заключается в следующем. Частицы абразивного материала, вдавливаясь в поверхность обрабатываемого полупроводникового материала, вызывают образование в ней микротрещин. Эти микротрещины в процессе обработки увеличиваются и распространяются вглубь от поверхности. Дальнейшая обработка приводит к созданию сети трещин, которые, смыкаясь, вызывают сколы отдельных участков полупроводникового материала. Отколовшиеся части удаляют с поверхности исходного образца. Таким образом происходит послойное удаление материала и осуществляется механическая обработка исходного образца.

Обработка полупроводниковых материалов свободным абразивом проводится с использованием различных абразивных суспензий, составной частью которых является жидкость. Наличие жидкости при обработке дает возможность более равномерного распределения абразивных зерен по всей обрабатываемой поверхности исходного образца. Жидкость переносит новую порцию абразивных зерен, поступающих из дозатора, и выносит из зоны обработки разрушенные частицы обрабатываемого материала. Смоченные абразивной суспензией обрабатываемые поверхности не подвергаются перегреву, который может привести к ухудшению качества механической обработки.